다른 업체들 속도경쟁 참여할 듯
일본 4위의 반도체 업체인 일본 후지쓰가 연구·개발(R&D)과 양산 기
능을 동시에 갖춘 “연구개발형 생산거점”을 구축키로 했다고 최근
밝혔다. 후지쓰는 최첨단 반도체 제품은 새로 구축하는 연구개발형 생
산거점에서 직접 양산하고 나머지 일반제품은 아웃소싱을 통해 생산한
다는 이원화 전략을 세웠다.
이는 R&D와 양산을 한 곳에서 수행함으로써 첨단제품의 개발에서 상품
화까지 걸리는 기간을 단축, 시장을 선점하기 위한 전략으로 풀이된
다.
후지쓰는 앞으로 5년간 총 1천억엔을 투입,도쿄 근교에 연구개발형 생
산거점을 구축할 방침이다. 생산능력은 8인치 웨이퍼 기준으로 월 1만
장 이상이며 올 가을부터 월 1천장규모의 시제품 생산을 개시한다.
이 공장에서는 생산되는 제품은 세계 최고수준인 회로 선폭 0.1마이크
론(1마이크론은 1백만분의1미터)의 첨단 LSI(대용량집적회로)반도체
다. 상품화에 성공하는 즉시 양산에 들어간다.
이에앞서 이달초 인텔은 회로선폭 0.13마이크론 제품을 양산한다고 발
표했었다 .
인텔은 미국의 캘리포니아주와 오레곤주 2곳에 연구개발형 생산거점
을 갖고 있다.
이 양대 거점에서 최첨단 제품을 개발,실제 양산체제에 적용해 본 뒤
세계 각국의 공장으로 생산기술을 이관, 생산량을 확대하는 방식을 취
하고 있다.
반도체 업계에서는 경쟁격화에 따라 최첨단 제품들도 수명이 짧아지
고 있다. 따라서 얼마나 빨리 시장에 내놓느냐가 수익성의 핵심열쇠
가 됐다.
이때문에 다른 반도체 업체들도 인텔과 후지쓰의 연구개발형 생산거
점 전략을 따를수 밖에 없을 것으로 전문가들은 보고 있다.
이를위해 대만의 반도체 하청생산 업체등에 대한 주문을 늘려 위탁생
산 비율을 현재 약 10%에서 20∼30%로 끌어올릴 계획이다.
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